實驗室里的歡呼聲漸漸平息，但李曉宇知道，真正的戰斗才剛剛開始。

“神光一號”雖然在實驗室環境下實現了0.8微米的分辨率，但這就像一個剛剛學會走路的孩子，距離在工業生產線上進行馬拉松式的長跑，還有著巨大的鴻溝。

要讓它成為一臺真正的工業母機，必須通過最殘酷的考驗——良率測試。

在這個芯片制造的戰場上，90%的良率是及格線，95%是優秀，而低于這個數字，就意味著巨額的虧損和徹底的失敗。

一周后，那臺承載著無數希望的“神光一號”樣機，被拆解、打包，裝上了特制的減震卡車，一路南下，駛向了上海張江高科技園區。

那里，一座剛剛封頂的，由國家重金投資建設的8英寸晶圓代工廠——“華夏微電子”，正虛位以待。

廠長趙國棟，一位從美國硅谷歸來的資深半導體專家，看著這臺貼著“金陵中心”標簽的國產設備，眼神中充滿了復雜的情緒。有期待，但更多的是懷疑。

“李總工，”趙國棟坦率地說道，“我不懷疑你們的技術實力。但是，芯片生產線是一臺精密的印鈔機，任何一點微小的故障，都會導致數百萬美元的損失。你們的機器，真的能扛得住7x24小時的高強度運轉嗎？”

“趙廠長，請給我們一次機會。”李曉宇的回答依舊自信，“還是那句話，事實勝于雄辯。”

試生產正式開始。

第一批25片8英寸硅晶圓，被機械手送入了光刻機內部。

曝光、顯影、刻蝕……

幾個小時后，當第一批晶圓經過最終的電性測試時，結果卻給了所有人當頭一棒。

良率：32%！

看著那張慘不忍睹的測試報告，趙國棟嘆了口氣，沒有說話。但那失望的表情，已經說明了一切。

賀云飛和張承平急得滿頭大汗，立刻帶領團隊進行了徹夜的排查。

“不是分辨率的問題！”賀云飛指著顯微鏡下的圖像說道，“線條很清晰！問題出在套刻精度（overlay）上！多層電路之間的對準出現了偏差，導致了電路短路或斷路！”

原來，光刻機在長時間運行后，由于內部電機發熱、環境溫度微變等因素，導致了工件臺和掩膜版之間產生了微米的相對位移。雖然“女媧”系統已經有了補償算法，但在如此復雜的動態環境下，依然顯得力不從心。

“我們需要更聰明的算法。”

李曉宇將目光投向了林濤。

“林濤，調動‘盤古’陣列的所有算力！我要你建立一個涵蓋光刻機內部所有熱源、振動源和應力源的‘全機物理場動態模型’！”

“我們要預測未來！在誤差發生之前，就把它計算出來，并補償掉！”

這是一項浩大的工程。林濤帶領著算法研究院的精英們，在上海的臨時辦公室里，進行了為期兩周的封閉開發。他們采集了海量的傳感器數據，訓練出了一個針對“神光一號”特性的深度學習模型。

這就是——“基于熱場模型的實時套刻補償算法”！

兩周后，算法升級完畢。

第二批晶圓，再次被送入光刻機。